立式化学气相沉积炉(碳化硅)技术特征
采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;
采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理;
采用最新设计防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低。
立式化学气相沉积炉(碳化硅)产品规格
参数\型号 | VCVD-0305-SIC | VCVD-0608-SIC | VCVD-0812-SIC | VCVD-1015-SIC | VCVD-1120-SIC | VCVD-1520-SIC |
工作区尺寸D×H(mm) | 300×500 | 600×800 | 800×1200 | 1000×1500 | 1100×2000 | 1500×2000 |
最高温度(℃) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
温度均匀性(℃) | ±7.5 | ±7.5 | ±7.5 | ±7.5 | ±10 | ±10 |
极限真空度(Pa) | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
压升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。
立式化学气相沉积炉(碳化硅)配置选择
炉门:丝杠升降/液压升降/手动升降;手动锁紧/自动锁圈锁紧
炉壳:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢
炉胆:软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC
加热器、马弗:等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨
工艺气路系统:体积/质量流量计;手动阀/自动阀;进口/国产
真空泵和真空计:进口/国产
PLC:欧姆龙/西门子
控温仪表:日本岛电/英国欧陆
热电偶:C分度号/S分度号/K分度号/B分度号
记录仪:无纸记录仪/有纸记录仪;进口/国产
人机界面:模拟屏/触摸屏/工控机
电器元件:正泰/施耐德/西门子